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高真空多源蒸发镀膜系统为河北大学制作 设备概述： 电阻加热式蒸发镀膜设备，适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体 膜、有机膜，操作简便，占地面积小。 结构及技术指标： 真空室为拉门结构，配备样品台，分子泵+机械泵机组及蒸发源。 样品台具有旋转、升降、加热功能。 设备极限真空：6×10负五次方Pa； 漏率为关机12小时≤10Pa（新设备空载，极限真空后关机）； 恢复工作真空时间：≤40min（新设备充氮气空载7×10-4 Pa）； 
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设备说明
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