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高真空双室有机金属热蒸发设备为太原理工大学制作
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设备概述及技术指标
设备概述： 该设备是一台有机/金属热蒸发镀膜设备，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。 主要用有机半导体材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验OLED实验研究。 技术指标： 蒸发室： 极限真空度: ≤5×10负五次方Pa 真空室有效容积：φ475mm×430mm 前开门 蒸发舟9套，束源炉2套 样品台可升降、旋转 配备机械手方便在线控制挡板开关 充气控制回路： 1路 预处理室： 极限真空度: ≤8×10负五次方Pa 真空室有效容积： 360mm×270mm×270mm 前开门 辉光清洗靶1支 充气控制回路：1路 |
